产品规格
| 测量模式 | 光谱椭偏测量 |
|---|---|
| 偏振调制方式 | 双旋转补偿器调制（选配） |
| 测量波段 | 380 ~ 1000 nm |
| 膜厚测试范围 | 1 nm ~ 10 μm |
| 膜厚重复性 | ≤ 0.005 nm（100 nm SiO₂/Si，30 次测量） |
| 折射率重复性 | ≤ 0.0002（n@632.8 nm，100 nm SiO₂/Si，30 次测量） |
| 单点测量时间 | ≤ 10 s |
| 光斑尺寸 | ≤ 200 μm（选配） |
| 入射角度 | 固定角度，自动变角模块（选配） |
| 光学模型 | Cauchy、Sellmeier、Lorentz、Drude |
| 数据输出 | TXT、CSV 等多种格式 |
产品概述
光谱椭偏仪是一款面向高校、科研院所及企业生产的精密光学测量仪器，主要用于纳米薄膜厚度、材料光学常数及多层膜结构的测量与分析，广泛适用于半导体材料、光学镀膜、功能薄膜及新型光电材料等研究领域。
仪器基于光谱椭偏测量原理，通过检测光线经样品反射后偏振状态的变化，获取椭偏参数 Ψ（Psi）和 Δ（Delta），并结合光学模型与数据拟合算法，实现薄膜厚度（d）、折射率（n）、消光系数（k）等关键参数的表征。
测量原理与可测参数
- 测量模式：光谱椭偏测量
- 可测量参数：膜厚 d、折射率 n、消光系数 k
- 测量波段：380 ~ 1000 nm
- 膜厚测试范围：1 nm ~ 10 μm
- 膜厚重复性：≤ 0.005 nm（100 nm SiO₂/Si，30 次测量）
- 折射率重复性：≤ 0.0002（n@632.8 nm，100 nm SiO₂/Si，30 次测量）
- 单点测量时间：≤ 10 s
光学模型支持 Cauchy、Sellmeier、Lorentz、Drude 等常用色散模型，并支持单层及多层薄膜结构建模与参数拟合。
配置方案
- 常规光谱椭偏测量
- 多角度测量（固定角度，自动变角模块选配）
- 微区测量（光斑尺寸 ≤ 200 μm 选配，激光辅助自动对焦选配）
- 晶圆自动 Mapping（晶圆多点扫描及二维/三维膜厚分布分析选配）
- 可测样品：支持多种尺寸及类型的片状样品，选配样品台
- 数据输出：TXT、CSV 等多种格式均支持
应用场景
- 半导体材料薄膜光学常数标定
- 光学镀膜与功能薄膜的膜厚、折射率测量
- 新型光电材料研究
- 高校与科研院所的基础实验与教学
- 晶圆级多层膜结构的一致性抽检