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基于角分辨散射的光学关键尺寸量测设备

面向薄膜、光栅、纳米线及周期性微纳结构的非接触式光学量测系统，通过采集不同波长、入射角与偏振条件下的反射散射信号，结合 RCWA 电磁建模与数值拟合反演关键尺寸与光学特性。