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关于我们与核心能力
01
光学级平整度
表面粗糙度 Ra < 0.5nm，满足高端光学镀膜与光刻工艺对基材的极致要求。
02
超薄均匀成膜
厚度公差控制在 ±3% 以内，支持 5μm–50μm 全规格连续量产。
03
高洁净低析出
Class 100 洁净室生产，金属离子含量 < 1ppb，适配半导体封装环境。
04
定制化复合方案
可根据客户工况调整表面能、透光率、热膨胀系数等关键指标，提供一站式打样到量产服务。
20年
行业深耕
500+家
合作客户
99.9%
良品率
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