芯见微正式发布基于角分辨散射的光学关键尺寸量测设备 AROSS-S100。该设备面向薄膜、光栅、纳米线及周期性微纳结构的非接触光学测量需求，是公司光学关键尺寸量测产品线的首款产品。
测量原理
设备通过采集样品在不同波长、入射角和偏振条件下的反射及散射信号，分析光学响应与结构参数之间的关系，并结合 RCWA 电磁建模和数值拟合算法，反演被测结构的关键尺寸和光学特性。
系统采用基于模型反演的非成像测量方法，不依赖对微纳结构进行直接成像，可表征小于传统光学成像直接分辨能力的结构参数。针对薄膜结构，系统可分析薄膜厚度、多层膜厚度；针对光栅及周期性结构，可在线反演周期、线宽、结构高度等参数。
关键指标
- 探测波长 400–700 nm 任选单色光
- 角度分辨率 ≤ 0.17°，入射角覆盖 -64° ~ +64°
- 探测光斑 1~3 μm，X / Y / Z 三轴可调
- 任意偏振角度，样品台可定制自动扫描模块
设备具有快速、无接触和无损测量特点，配套自研拟合算法，内存占用小、实时计算量低，可降低复杂结构参数反演的数据处理资源需求，提高测量效率。